真空加熱炉 ドライ排気システム採用 使用加熱温度：300℃～750℃ 炉内有効加熱寸法 W800×H800×L1800 耐荷重700kg 1台
精密洗浄機 洗浄カゴ寸法 500×500×300 超音波洗浄+真空加熱乾燥 1台
ヘリウムリ－クディタクタ 真空法，スニーファ法対応 2台
ホイストクレ－ン他 ホイスト：2基、テルハ：1基 吊上げ荷重：2.8t 3台
クリンルーム class:10,000 6m×12m×H4.5ｍ+6m×12m×H3.0mの2ｴﾘｱ構造 class:1,000 4ｍ×8m×H3.0m（class10,000に併設） 1台
門型クレーン class:10,000 6m×12m×H4.5ｍに設置 吊上げ荷重：3.0t 1台
株式会社日本シード研究所
- 電子部品･モジュール
- 測定･分析
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- 加熱装置･炉
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- その他電機機器
- 非鉄金属
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- 検査機器･装置
- 表面処理装置
- 半導体製造装置
- 試験機器･装置
- 消耗品
- 電子計測器
- 計測機器
- 真空機器
- 理化学機器
- 実験器具
- その他分析機器
- その他理化学機器
- 電子部品
- 光学部品
- 半導体
- 素材
- 鉄
- アルミ
- ステンレス
- チタン
- その他
- キーワード・資格
- 受託開発
- クリーンルーム
- ISO9001(品質）
- 保有技術
- 溶接
- 熱処理
- 表面処理
- 2D CAD/CAM
- 組み立て･配線
- 検査･試験･計測
企業情報Comapany
- 会社URL
- https://www.seed-lab.com
- 本社所在地
- 〒 252-1125 神奈川県綾瀬市吉岡東二丁目3番27号
- 電話番号
- 0467-77-4351
- FAX番号
- 0467-77-9858
- 代表者役職
- 代表取締役
- 代表者名
- 木下 時重
- 資本金
- 1000万円
- 創業開始日
- 1981年8月
- 従業員数
- 22人
- 事業概要
- 真空加熱炉の開発・設計・製作、真空薄膜作製装置（スパッタリング・蒸着）、プラズマ応用装置の開発・設計・製作、真空機器・真空応用装置の開発・設計・製作を行っております。また、真空装置の改造やメンテナンスサ-ビスや移設も行っております。
■業種
溶接、熱処理、表面処理、2D CAD/CAM、組み立て・配線、検査・試験・計測、受託開発、クリーンルーム
■加工品
電子部品、電源、半導体・IC、光学部品、液晶、デバイス、半導体、その他電子部品、ポンプ、配管部品、真空機器、筐体、半導体製造装置、理化学機器、加熱装置・炉、表面処理装置、実験器具・消耗品、その他理化学機器、電子計測器、試験機器・装置、検査機器・装置、分析機器、その他分析機器、クリーンルーム、計測機器、その他機械機器、鉄鋼、非鉄金属
■加工素材
アルミ、ステンレス、チタン、鉄鋼、その他非鉄金属
PR情報PR
PRポイント
- 1981年8月
- 創業開始
設立時の1981年（昭和56年）当時は､半導体産業が急速な登り坂にありました。それによって真空技術も大幅な産業分野への用途開発ができました。
しかし､国内では真空機器の構成部品は20年前のものが多く古風というより進歩がない状態であったと思われます｡けれども先進諸外国からの輸入部品は斬新的なアイデアが盛り込まれた改善・改良の商品として市場に進出していました｡
このような状況下で､従来の部品よりもより優れ､今一歩レベルの高いものを求めて………。という趣旨で当社が設立されました｡
そこで従来の製品（商品）を評価し､知り得た多くの情報から『改善･改良の糸口をつかむ開発を行うエンジニアリング企業に育てたい』、もうひとつはここで得られた技術の『種』を蒔くという意味合いも兼ねて『シード』という語句が選ばれて当社の商号となりました。
即ち、System Engineering for Evaluation and Development の頭文字の集合 SEED が社名として名付けられました。
評価と開発で生み出された機器は現有機器の利用価値を高めるばかりでなく、次の世代への遺産でもあります。遺産は後世の人たちに多くの幸福と繁栄を約束する礎になることでしょう。
保有資格License
ISO9001(品質)